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2024年半導(dǎo)體設(shè)備哪個品牌好

2024-10-13 14:00:22報(bào)告大廳(158dcq.cn) 字號:T| T

中國報(bào)告大廳網(wǎng)的最新市場調(diào)研揭示了半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的品牌影響力。2024年,半導(dǎo)體設(shè)備市場迎來了新的變化,各大品牌在產(chǎn)品質(zhì)量、技術(shù)創(chuàng)新和市場占有率等方面展開了激烈的競爭。

在2024年半導(dǎo)體設(shè)備品牌排行榜中,各大品牌通過不斷的努力和創(chuàng)新,提升了自身的品牌價(jià)值和市場競爭力。這些品牌在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)和供應(yīng)上占據(jù)了重要地位,不僅在國內(nèi)市場有著廣泛的影響力,也在國際市場上逐漸嶄露頭角。2024年半導(dǎo)體設(shè)備品牌排行榜的詳細(xì)排名為ASML阿斯麥、AMAT應(yīng)用材料、Lam Research、Tokyo Electron、KLA科磊、ASMI、上海微電子Smee、北方華創(chuàng)、中微AMEC、電科裝備CETC。

表1:2024年半導(dǎo)體設(shè)備十大品牌排行榜

排名品牌名稱企業(yè)名稱省份/地址
1ASML阿斯麥阿斯麥(上海)光刻設(shè)備科技有限公司上海市
2AMAT應(yīng)用材料應(yīng)用材料(中國)有限公司上海市
3Lam Research泛林半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)(上海)有限公司上海市
4Tokyo Electron東電電子(上海)有限公司上海市
5KLA科磊科磊半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)(上海)有限公司上海市
6ASMI先晶半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司上海市
7上海微電子Smee上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司上海市
8北方華創(chuàng)北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司北京市
9中微AMEC中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司上海市
10電科裝備CETC中電科電子裝備集團(tuán)有限公司北京市

一、品牌簡介

(一)ASML阿斯麥

ASML創(chuàng)立于1984年,全球芯片光刻設(shè)備市場領(lǐng)導(dǎo)者,是全球最大的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商之一,ASML于2000年推出TWINSCAN光刻機(jī),2010年成功研發(fā)首臺EUV光刻機(jī),是當(dāng)前唯一可以生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司。ASML在全球10余個國家設(shè)有60余個辦公...

(二)AMAT應(yīng)用材料

AMAT成立于1967年,以薄膜沉積設(shè)備起家,是全球極具影響力的半導(dǎo)體和顯示設(shè)備制造商之一,目前產(chǎn)品與服務(wù)已覆蓋原子層沉積、物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、刻蝕、快速熱處理、離子注入、測量與檢測、清洗等生產(chǎn)步驟,AMAT于1984年進(jìn)入國內(nèi),是第一家進(jìn)入中國的...

(三)Lam Research

Lam Research創(chuàng)立于1980年美國,是全球領(lǐng)先的晶圓制造設(shè)備、技術(shù)和服務(wù)提供商,主營刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備和清洗設(shè)備,居于刻蝕設(shè)備行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位,在納米級應(yīng)用支持,化學(xué),等離子和流體技術(shù)等領(lǐng)域建立了強(qiáng)大的競爭力,Lam Research于1994年...

(四)Tokyo Electron

TOKYO ELECTRON成立于1963年日本,是全球知名半導(dǎo)體制造設(shè)備、液晶顯示器制造設(shè)備提供商。主要產(chǎn)品涵蓋涂布/顯像設(shè)備、熱處理成膜設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、CVD、濕法清洗設(shè)備及測試設(shè)備,已在日本、美國、歐洲、韓國、中國等地都建立了自己的網(wǎng)點(diǎn),在全球多...

(五)KLA科磊

KLA科磊由KLA和Tencor兩家公司于1997年合并而成,是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體檢測設(shè)備供應(yīng)商,半導(dǎo)體前道量測設(shè)備領(lǐng)域影響力企業(yè),產(chǎn)品貫穿前道工藝過程控制全流程,為半導(dǎo)體制造及相關(guān)行業(yè)提供良率管理和制程控制解決方案,1999年在國內(nèi)設(shè)立第一個分公司,目前已...

(六)ASMI

ASM International創(chuàng)立于1968年荷蘭,以晶圓加工設(shè)備起家,全球知名半導(dǎo)體設(shè)備提供商,ALD設(shè)備居于行業(yè)前列,是高端薄膜沉積設(shè)備行業(yè)全球領(lǐng)導(dǎo)者,主要提供ALD、epi、PECVD、爐管等產(chǎn)品,在北美、歐洲、亞洲等地設(shè)有技術(shù)研發(fā)與制造中心,業(yè)...

(七)上海微電子Smee

SMEE成立于2002年,是國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻設(shè)備領(lǐng)域佼佼者,主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及技術(shù)服務(wù),廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。

(八)北方華創(chuàng)

北方華創(chuàng)成立于2001年,深交所上市公司(股票代碼:002371),是國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體裝備制造與服務(wù)商,旗下北方華創(chuàng)微電子主要提供刻蝕機(jī)、PVD、ALD、CVD、氧化/擴(kuò)散爐、清洗機(jī)、氣體質(zhì)量流量計(jì)等高端半導(dǎo)體工藝裝備及核心零部件,為半導(dǎo)體、新能源、新材料...

(九)中微AMEC

中微公司始于2004 年,2019 年于上交所上市(股票代碼:688012),是一家以中國為基地、面向全球的微觀加工高端設(shè)備公司,為集成電路和泛半導(dǎo)體行業(yè)提供高端設(shè)備和服務(wù),國內(nèi)刻蝕設(shè)備行業(yè)佼佼者,主要產(chǎn)品涵蓋刻蝕設(shè)備、MOCVD 設(shè)備、薄膜設(shè)備,服務(wù)遍布...

(十)電科裝備CETC

電科裝備成立于2013年,隸屬中國電子科技集團(tuán),具備集成電路局部成套和系統(tǒng)集成能力以及光伏太陽能產(chǎn)業(yè)鏈整線交鑰匙能力,已實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)離子注入機(jī)28納米工藝制程全覆蓋,形成了以離子注入機(jī)、平坦化裝備(CMP)等為代表的微電子工藝設(shè)備研究開發(fā)與生產(chǎn)制造體系,涵蓋材...

二、品牌優(yōu)勢

在任何領(lǐng)域的企業(yè)成功,專利信息和起草標(biāo)準(zhǔn)的重要性不容忽視。專利信息是企業(yè)創(chuàng)新的重要產(chǎn)物,它可以保護(hù)企業(yè)權(quán)益,提升企業(yè)競爭力;起草標(biāo)準(zhǔn)則是企業(yè)產(chǎn)品制造和服務(wù)領(lǐng)域的質(zhì)量保障,有助于規(guī)范市場行為,提高行業(yè)基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)。

(七)上海微電子Smee

表2:專利信息

序號專利號/專利申請?zhí)?/th>專利名稱
1ZL201310747393.8一種調(diào)焦調(diào)平裝置
2ZL201410857409.5一種硅片邊緣保護(hù)裝置
3ZL201110241791.3一種步進(jìn)光刻設(shè)備及光刻曝光方法

表3:專利信息

標(biāo)準(zhǔn)號標(biāo)準(zhǔn)名稱發(fā)布日期實(shí)施日期
GB/T 40577-2021集成電路制造設(shè)備術(shù)語2021-10-112022-05-01

(九)中微AMEC

表4:專利信息

序號專利號/專利申請?zhí)?/th>專利名稱
1ZL201210378282.X等離子體處理裝置及調(diào)節(jié)基片邊緣區(qū)域制程速率的方法

表5:專利信息

標(biāo)準(zhǔn)號標(biāo)準(zhǔn)名稱發(fā)布日期實(shí)施日期
GB/T 40577-2021集成電路制造設(shè)備術(shù)語2021-10-112022-05-01

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(本文著作權(quán)歸原作者所有,未經(jīng)書面許可,請勿轉(zhuǎn)載)
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行業(yè)數(shù)據(jù)
進(jìn)出口數(shù)據(jù)
宏觀數(shù)據(jù)
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